华为公布新的专利，日本传来新的消息，光刻机巨头ASML不再是唯一？

取而代之型光刻机本身的斗志据说也是不弱的，按照阿斯麦尔上次12年底份交代，取而代之一代，Na值为0.55的EUV光刻机，众所周知能够将显卡新技术DRAM的生产大幅提高到1纳米及都有，还有或许才会有更多的曝光量，提更高显卡的市场需求。

因此，在阿斯麦尔不断进步的当下，必将的三星和日本人的尼康，也也就是说是跃进一项更高效率，获取一项实用新型而言，要只想凭借着这样就冲击阿斯麦尔的声望，多少有点不太或许。

揭示

三星的取而代之实用新型，尼康的取而代之更高效率，使得阿斯麦尔的EUV光刻机不再是显卡生产代工的唯一考虑。期待着更进一步世界性，相当多是必将，能够在显卡生产应用不断攻坚克难，争取力争逃避对阿斯麦尔EUV光刻机以及DUV光刻机的倚赖。

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