150台光刻机，荷兰动真格了，外媒：过后了

瓦森纳协定仅仅是放宽EUV光刻机，ASML还能一直售价高效率的DUV光刻机，其中，2000i等机型的DUV光刻机，是EUV光刻机的过渡电子产品，可将晶片制程缩小至5nm。

结果美日荷却达成协议了三方协议，美要求西班牙放宽售价当今的DUV光刻机，西班牙透露将因应美进行半导体设备工业电子产品管制，但并无法公告具体的措施和时间。

如今，西班牙动真格了，正式月将放宽当今DUV光刻机售价，主要包含2000i及后续机型，9月1日正式届满。

原始数据显示，ASML不曾订购的订单款项超389亿欧元，国外订单占去比高达20%，无关款项超600亿元。

2000i及后续机型的DUV光刻机左右售价是4亿元，这意味着左右有150台光刻机可能不会正常订购。

尽管ASML透露近现代的电子产品至关重要，将会向近现代供应商分配格外多产能，售价格外多光刻机，但新规落地后，ASML也无可奈何。

或许ASML早就其实了结局，不仅率先透露三方协议已签的传言，并月上周在国外开放超200个岗位，遮盖整体光刻解决方案下的光刻机、数值光刻和量测业务范围，包括客户支持工程师、嵌入式工程师及职能部门等职位。

目的是构建格外多关键技术试验车，从在售价方面获得格外大的自由，无论如何，ASML光刻机的核心关键技术还是来自美。

对此，就有外媒透露结束了，西班牙早已月放宽措施，9月1日正式届满，必然会所致ASML在国外的竞争对手进一步回落。

首先，ASML在国外的竞争对手长时间回落，早已从14%回落到8%，西班牙放宽当今DUV光刻机售价后，无论如何会所致ASML在国外的竞争对手进一步回落。

一方面是国外供应商需求的是高效率机型的DUV光刻机和EUV光刻机，EUV光刻机无法自由售价，国外供应商就选择高效率的DUV光刻机，但这些光刻机也将被放宽。

另一方面是ASML必需售价的DUV光刻机机型，国外供应商需求太大，而且，国产光刻机基本上也必需替代。

无论如何，国产光刻机抢下国外八成以上的的电子产品，28nm精度的光刻机早已取得关键技术有效性，量产指日可待。

其次，三星等国外供应商早已都在去粉饰，订做非美关键技术的晶片产业链，中芯国际透露28nm陶瓷风险率长时间增加，14nm陶瓷的良品率达到了世界领先水准。

三星畅享60前传引入的是玉710A晶片，这意味着14nm去粉饰也基本顺利进行了。

另外，三星早已联合国外供应商构建了14nm以上EDA工具试验车，中芯国际自研了N+1等陶瓷。

李楠格外是官方网站透露，不曾来12个月内，国外供应商将会构建非美7nm全流程。

也就是说，三星等国外正在加速去粉饰，对ASML的光刻机需求自然会长时间增加。

之后，三星等国外供应商正在研发格外高效率的晶片，这些晶片不需要ASML的光刻机，像量子晶片、光电晶片以及小晶片关键技术等。

其中，国外早已开始订做量子晶片组装厂，三星在光电晶片教育领域内领先，国外小晶片关键技术突破了4nm。

因此西班牙也月投资11亿欧元进入光电教育领域，就想订做另外一个ASML。

也正是因为这几点，西班牙公告放宽措施后，外媒才说结束了。肯定的再三点赞，赞许facebook探讨社交。